Un esquema simplificado puede verse las siguientes figura. Según las fibra existirá la hace el fondo del crisoles, pasa a través de un medidor de diámetro que no así compacto y alimenta el sistema controla la velocidad de rotación del tambor para mantener un diámetro externo constante. La fibra entonces pasa a través de una serie de materiales que cubren la superficie externa de la vaina. La fibra entonces secada, un y arollada continuamente sobre un tambor .

En principio, el proceso de doble crisol tiene la ventaja de que puede ser usado para generar continuamente fibras de cualquier longitud. Desafortunadamente, porque los vidrios del núcleo y la vaina deben ser contenidos y calentado es dentro de crisoles, es difícil de mantener los niveles de alta pureza requeridos para construir fibras de baja pérdda.

Un proceso diferente para producir fibras de baja pérdida fue desarrollado durante los años setenta. Ardoz a muchas versiones del mismo proceso está siendo usada por los fabricantes, todo basados sistema de producción de fibra de vidrio usando oxidación en fase de vapor (VPO). 

El proceso de oxidación interno por fase de vapor se muestran las siguientes figura .

Los vapores de varios metales son mezclados con oxígeno y helio a los niveles de concentración deseados altamente controlados y alimentados en un cilindro hueco de silicio. Los cloratos de silicio y germánico existen como líquidos a temperatura y presión ambiente, mientras que los del fósforo y boro debe ser almacenados bajo alta presió , comose muestran las figura anterior. Y cada caso, los elementos son introducidos en el mezclador los juez principal por medio de un proceso de destilación a vapor. Porrejemplo, el oxígeno de alta pureza debe ser burbujeado at través del tetra cloro de silicio líquido y del tetra cloruro de germanio. Este proceso reduce el nivel de impurezas en los vapores que son alimentados en el tubo de reacción . el calor es aplicado a la superficie externa del tubo, usando una antorcha movible de hidrógeno-oxígeno. Esto lleva a lo oxidación de los metales, precipitándose en pequeñas partículas de vidrio que van llenando la pared del tubo.

El tubo se monta en un lecho de vidrio y continuamente es rotado durante el proceso de oxidación, tal que los depósitos se precipita uniformemente alrededor de las circunferencia interna del tubo, como se muestran la figura :

El calentador transversal no solamente provee el calor requerido para oxidado los varios metales sino también para transformar los depósitos porosos en pequeña capas vítreas que se forman según va pasando el quemador. Controlando la concentración de los varios reactivos alimentados en el tubo ese psible construir capas de óxido de silicio con el nivel deseado de dopaje. Eventualmente estos formaran la vaina y el núcleo de la fibra.

Otros pasos son llevados a cabo antes de del tubo esté listo para ser envainado. Esto se muestran en la siguiente figura la siguiente figura :

una vez que el núcleo envainado han sido depositados, el tus calentado de tal forma que la tensión de la superficie lo colapso y elimina cualquier posible agujero en el centro. Para obtener varias de las deseadas propiedades físicas, los fibras pueden ser terminadas sin remover el sustrato, después de remover el sustrato, o después de que una fina capa vítrea ha sido depositada en la parte externa de las fibra colapsada. 

En este proceso, el material del núcleo se depositó primero y luego la vaina es depositada sobre el, de la misma forma que se vieron proceso anterior. La cantidad de dopaje puede ser continuamente variado durante el proceso de posesión del material del núcleo. Hasta ha sido posible producir reforma para fibras índice gradual, así como las fibras de índice en escalón. El índice de refracción de un material poroso depositado sobre la espiga centrada decrece monotónicamente hacia afuera y que, a lo que corresponderá a la interfaz núcleo-vaina, y entonces se mantendrá constante hacia la superficie externa del cilindro poroso.

Así, la fabricación de fibras por este proceso, incluyendo la remoción de la espiga central, seguido con el colapso de lujo que los centrado, antes o durante el proceso de envainado. Con un proceso anterior, el proceso de deposición se lleva a cabo con un baño de material vítreo. así, la fibra producida por un proceso sin un tamaño limitado de entre 10 y 20 kilómetros. 

La limitación longitud son sobrepasadas por este método, que se ve en las siguiente figura :

las partículas vítreas que forman el núcleo y la vaina, son eyectadas desde quemadores de oxígeno-hidrógeno depositados longitudinalmente y radialmente al final de la espiga de silicio. Controlando cuidadosamente la concentración de los metales que se alimenta a los quemadores, se puede realizar una preforma poroso con la variación radial deseadas del índice de refracción, al comenzando al final de la espiga de silicio. La espiga lentamente es tirada hacia arriba según la deposición continúa a una velocidad constante constante en el extremo inferior de la preforma porosa. La sección porosa entonces pasa a través de un anillo calefactor concéntrico que colapsa a la sesión porosa para formar espiga vítrea, logrando el perfil deseado del índice de refracción. el proceso completo es llevado a cabo dentro de una cámara de reacción con una atmósfera inerte cuidadosamente controlada para reducir el nivel de impureza. En este proceso permite la producción de grande preformas capaces euna n una única pieza de fibras a de hasta cien kilómetros de largo. La calidad óptica de la fibra construidas con este método es muy alta.